光刻技术大突破！中国新凯来横空出世 扰动全球半导体产业链

纵横网讯    在近日落幕的SEMICON China 2025展会上，一家成立仅四年的深圳晶片设备商新凯来（SiCarrier Technologies）成为全场焦点。

这家由深圳政府产业基金支持的半导体设备制造商首次公开展示了涵盖光刻、薄膜沉积、蚀刻等核心制程的30馀款自主设备，其中28奈米级300 毫米晶圆光刻技术更引发全球半导体产业的高度关注。

新凯来表示，该公司的目标是打造端到端的半导体制造解决方案，目前已构建起从材料研发、组件制造到系统集成的完整开发链条，尤其在 28奈米制程上已具备跟国际主流设备商同台竞技的能力。

新凯来此次展出的设备清单涵盖原子层沉积 （ALD）、化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、蚀刻、退火等关键制程。

28奈米光刻机亮相引关注

尽管未直接展示光刻设备，但据悉，新凯来已成功研发出适用于300毫米晶圆的28nm浸润式光刻系统，其光源波长、套刻精度等核心技术参数达到国际同类产品水平。

半导体产业分析师王磊表示，28奈米是目前成熟制程与先进制程的分水岭，也是中国半导体设备厂商必须攻克的关卡。

新凯来的技术突破意味著国产设备在关键制程上实现了从无到有的跨越。

值得注意的是，该公司还在展会上推出了适配功率半导体的电气性能测试、良率检测等配套设备，显示其在细分领域的精准布局。

剑指高阶晶片制造设备国产化

新凯来2020年在深圳注册成立，由深圳市引导基金联合多家本土资本共同注资，目标直指高阶晶片制造设备国产化。

公司成立之初便在北京、上海、西安等地设立研发中心，并在全球招募顶尖技术人才。

该公司核心团队成员多来自荷兰阿斯麦尔（ASML）、美国应用材料（AMAT）等国际巨头，涵盖光刻、蚀刻、检测等关键领域的资深工程师。

尽管成立时间较短，新凯来已展现出强烈的市场进取心，目前客户名单涵盖中芯国际、华虹集团等中国重量级晶圆厂，部份蚀刻设备已在功率半导体产线实现批量应用。

欧洲、东南亚设技术服务中心

新凯来打算在未来三年内将研发中心扩展至10 个以上城市，并在欧洲、东南亚设立技术服务中心。

新凯来市场总监赵敏说，“我们的优势在于快速响应客户需求和定制开发能力”，并指针对中国晶圆厂设备兼容性问题，已组建专门团队进行制程适配攻关，预计明年将推出与艾司摩尔、应用材料设备完全兼容的升级版本。

新凯来的横空出世，正值全球半导体产业剧烈震荡之际。

根据SEMI最新报告，2024年中国半导体设备采购额达320亿美元，占全球市场份额的28%，但国产设备渗透率不足15%。

新凯来28奈米光刻机的亮相，无疑为中国半导体设备国产化注入强心剂。

“深圳模式”改写竞争格局

清华大学微电子研究所所长魏少军说，“这不仅是技术突破，更是产业生态的重建”，并称新凯来代表的“深圳模式”，也就是政府基金引导、市场化运作、全球化引才的模式，正改写全球半导体设备竞争格局。

设备厂商需警惕“重研发轻生态”的陷阱，只有建构起完整的产业链协同体系，才能真正实现自主可控。

但即便前景光明，新凯来仍面临多重考验。业界普遍聚焦在其设备能否无缝接取现有产线，以及在良率、稳定性等关键指标上能否比肩国际巨头。

中国半导体设备业进深水区

对此新凯来首席技术员陈东表示，已跟多家晶圆厂建立联合实验室，预计今年第四季公布首批商业化订单数据。

芯谋研究首席分析师顾文军指出，半导体设备是典型的高投入、长周期行业，四年的累积只是开始。

新凯来的崛起标志著中国半导体设备产业进入深水区，未来需要在电子设计自动化（EDA） 工具、先进封装设备等领域实现更大突破。